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EDI(Electro-de-ionization,continuouselectro-de-ionzation)又被稱為CDI和連續(xù)電除鹽。該技術(shù)是二十世紀八十年代以來逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過十幾年的發(fā)展EDI在歐美等國己普遍使用，且占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場。在國內(nèi)此項技術(shù)的應(yīng)用在起步階段,有蓬勃發(fā)展的態(tài)勢。EDI廣泛地應(yīng)用于電子、電力、生物、制藥、化工等諸多領(lǐng)域，是傳統(tǒng)離子交換混床工藝的佳取代技術(shù)。EDI的出現(xiàn)是水處理技術(shù)的一次革命性的進步，標(biāo)志著水處理工業(yè)跨入綠色產(chǎn)業(yè)的行列。
工作原理 
陜西鹿鳴水處理技術(shù)有限公司生產(chǎn)的EDI設(shè)備是將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng),成為濃水。EDI設(shè)備一 般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率-般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達18MΩ.cm(25℃),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。
工作流程
1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器一>精密過濾器- →原水箱一 陽床- >陰床- →混床-→純水箱→純水泵-→后置精密過濾器一→用水點。
2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進行組合的方式，其基本工藝流程為:原水- +沙炭過濾器- +精密過濾器- +原水箱- +反滲透設(shè)備- >混床+純水箱- +純水泵-后置精密過濾器→用水點。
3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進行搭配的方式，這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨?原水→沙炭過濾器→精密過濾器+原水箱一 反滲透設(shè)備→電去離(EDI) -→純水箱→純水泵+后置精密過濾器→ 用水點。

設(shè)備特點
1.可連續(xù)生產(chǎn)，產(chǎn)水電阻率高≥15MΩ.cm, 產(chǎn)水率可以高達95%，產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定。不需要配酸堿再生。
2.無污水產(chǎn)生，系統(tǒng)控制自動化程度高，操作簡單，勞動強度低
3.連續(xù)運行，產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定，無需酸堿再生，利于環(huán)保。
4.產(chǎn)水率高，占地面積小，操作簡單，容易實現(xiàn)全自動控制。
5.性能穩(wěn)定，維修工作量小;運行維護成本低。
應(yīng)用范圍
適用于電子行業(yè)如顯像管玻殼、顯像管、單晶硅半導(dǎo)體、印刷線路板、液晶顯示器、光盤、計算器硬盤、集成電路芯片等清洗用水。

技術(shù)參數(shù)

操作壓力: 3(Mpa)

水電阻率: 5-18.25兆歐，出水量: 1-100t/h

外形尺寸: 設(shè)計而定(cm)，電壓: 380 (V)

卜水質(zhì): 高純水

功率:設(shè)計而定(w)

電導(dǎo)率: 10us/cm，脫鹽率: 99.99(%)

單機出力: 1-100t/h